高く純粋な注入イオンは半導体の企業のタングステンを分ける

製品の説明

高く純粋な注入イオンは半導体の企業のタングステンを分ける

注入イオンはタングステンをである物質的な表面処理のためのハイテクノロジーの新しい世代分ける。それは一連の物理的および化学使用する

固体のある表面の特性を改良するために固体材料に高エネルギーの金属の要素のイオン ビームによって引き起こされる変更

材料。

指定及び化学成分（体言）

注入イオン部品のタングステンの技術の利点:

（1）それは純粋な無公害の表面処理の技術である;

（2）熱活発化および高温度の環境を必要としない、従って全体寸法および表面の終わりを変えない

工作物の;

（3）イオン・インプランテーションの層はイオン ビームと基質間の一連の物理的な、化学相互作用によって形作られる新しい表面層である

表面は、そこにそれと基質間の皮をむく問題でなく;

（4）はイオン・インプランテーションの後にそこに機械化および熱処理のための必要性ではない。

注入イオン部品のタングステン映像:

注入イオン部品のタングステンの適用

この表面処理の技術の優越性、実行可能性および広い市場見通しはますます認められた

部門および単位およびため広く利用されている。研究開発の年に従って、金属のイオン・インプランテーションは特にある

次のタイプの用具、ダイスおよび部品の表面処理のために適した:

• 医学の整形外科の修理部品に（チタニウムの合金の人工関節のような）および外科手術用の器具に非常によい経済的なおよび社会がある

  利点。

• 突き出る化学繊維のための精密ノズルおよび光ファイバーは摩耗抵抗および耐用年数を非常に改善できる;
• 缶の企業の型を押し、押し、半導体の企業の精密型はかなりこれらの貴重なそして精密型のワーキング・ライフを改善できる。