Zr704 Zr705のジルコニウムは薄膜のコーティングのためのターゲットを放出させる

製品の説明

薄膜のコーティングのためのジルコニウムの放出させるターゲット

私達は半導体の使用のための最大級密度の高い純度のジルコニウムの放出させるターゲットのそして最も小さく可能な平均結晶粒度、化学気相堆積（CVD）および物理的な蒸気沈殿（PVD）表示および光学適用作成を専門にする。薄膜のための私達の標準的な放出させるターゲットは利用できるmonoblockまたは穴のドリルの位置の820のmmまで両方のより古い放出させる遺贈財産を使用と構成斜角が付く通ること溝設計されている裏付け平面ターゲット次元と結ばれてであり、また太陽エネルギーまたは燃料電池およびフリップ破片の塗布のための大きい区域のコーティングのような最も最近のプロセス用機器。研究によって大きさで分類されるターゲットはまた作り出される、また注文のサイズおよび合金。すべてのターゲットはX線の蛍光性（XRF）を含む最もよい示された技術を使用して、グロー放電の質量分析（GDMS）、および帰納的につながれた血しょう（ICP）分析される。「放出させることは」イオンの衝突による指示された気体/血しょう段階への目標資料の管理された取り外しそして転換によってまたは別の固体基質に酸化物材料金属超高い純度の放出させるか、の薄膜の沈殿を可能にする。私達はまたちょうど約あらゆるサイズ長方形、環状かまたは楕円形ターゲットに加えてこの範囲の外のターゲットを提供してもいい。材料は昇華のような結晶化の、ソリッド ステートおよび他の超高い浄化プロセスを使用して作り出される。私達はコマーシャルおよび研究の塗布と新しい専有技術のための注文の構成の作成を専門にする。私達はまた棒にの希土類金属および他のほとんどの先端材料、棒、または版の形態、また他の機械で造られた形投げる。他の形は要求によって利用できる。

ジルコニウムの放出させるターゲット映像:

私達の主要な装置

真空の電子ビームの炉、真空の誘導の溶ける炉、鍛造材機械、圧延製造所、オイル出版物、

真空のアニーリング炉、数値制御の旋盤、数値制御のフライス盤、マシニング センター、

粉砕機、ワイヤー切断、数値制御水切断、XRF、icpoes、metallographic探知器、等

私達の証明書

1. 私達はISO9001証明した会社をである。

2. 私達はずっと出されたSGSのレポートである。

3. 私達はハイテクな企業として与えられた。

4. 私達は上限装置のための国民の資金によって投資された。