
高純度モリブデン・ディスク モ・ターゲット
詳細情報 |
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製品名: | Molyはイオン部品を植え付けた | 等級: | Mo1 |
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密度: | 10.2 G/cm3 | 純度: | >99.95% |
引張強さ: | >320 MPa | 延長: | <21> |
標準: | ASTM B387-2010 | 適用: | 注入型 |
ハイライト: | 半導体のMolyのイオン・インプランテーション,99.95%半導体のイオン・インプランテーション,99.95%高エネルギーのイオン・インプランテーション |
製品の説明
Molyはイオン部品をである非半導体の物質的なイオン・インプランテーションの表面の修正の研究そして適用で有能、広範植え付けた。多くの窒素のイオン・インプランテーションを達成することができない金属のイオン・インプランテーションを非常によく達成することができる。但し、従来のイオンimplanterは半導体のイオン・インプランテーションの条件に基づき、比較的強い金属のイオン ビームを得ることは困難であり非半導体材料のためのイオン・インプランテーションの表面の修正の費用は比較的高い。
指定及び化学成分(NORNIMAL)
材料 | 等級 | 化学成分(重さによって) |
純粋なMoly | Mo1 | >99.95%min.Mo |
チタニウムZr Mo合金 | TZM | 0,5%のチタニウム/0,08%のZr/0,01 - 0,04% C |
Mo HfC | MHC | 1,2% Hf/0,05 - 0,12% C |
Molyレニウム | もっと | 再5,0% |
Molyのタングステン | MoW20 | 20,0% W |
Molyのタングステン | MoW505 | 0,0% W |
イオン ビームが真空の固体材料に出る場合の、イオン ビームは固体材料の表面から固体材料の原子か分子をたたくことイオン・インプランテーションの平均。この現象は放出させること呼ばれる;
イオン ビームは固体材料に当るとき、固体材料またはパスの表面から固体材料を通って立ち直る。これらの現象は分散呼ばれる;
もう一つの現象はイオン ビームが固体材料に撃たれた後、固体材料の抵抗によってゆっくり減る、固体材料に最終的にこととどまる。この現象はイオン・インプランテーションと呼ばれる。
この表面処理の技術の優越性、実行可能性および広い市場見通しは部門およびずっと単位によってますます認められ、広く利用されている。研究開発の年に従って、金属のイオン・インプランテーションは次のタイプの用具、ダイスおよび部品の表面処理のために特に適している:
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