
高純度モリブデン・ディスク モ・ターゲット
詳細情報 |
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製品名: | イオンImplanterの部品 | 等級: | Mo1 |
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密度: | 10.2 G/cm3 | 純度: | >99.95% |
引張強さ: | >325 MPa | 延長: | <20> |
標準: | ASTM B387-01 | 適用: | 半導体 |
ハイライト: | 99.95%モリブデン プロダクト、イオンImplanterの99.95%部品、半導体イオンImplanterの部品,99.95% Ion Implanter Parts,Semiconductor Ion Implanter Parts |
製品の説明
イオンImplanterの部品はハイテクな物質的な表面処理の新しい世代である。固体材料のある特定の表面の特性を改良するために固体材料を書き入れることを高エネルギー金属の要素のイオンビームによって引き起こされる一連の物理的な、化学変化を使用する。
指定及び化学成分(NONIMALS)
材料 | タイプ | 化学成分(重さによって) |
純粋なMoly | Mo1 | >99.95%min.Mo |
チタニウムZr Mo合金 | TZM | 0,5%のチタニウム/0,08%のZr/0,01 - 0,04% C |
Mo HfC | MHC | 1,2% Hf/0,05 - 0,12% C |
Molyレニウム | もっと | 再5,0% |
Molyのタングステン | MoW20 | 20,0% W |
Molyのタングステン | MoW505 | 0,0% W |
イオン ビームが真空の固体材料に出る場合の、イオン ビームは固体材料の表面から固体材料の原子か分子をたたくことイオン・インプランテーションの平均。この現象は放出させること呼ばれる;
イオン ビームは固体材料に当るとき、固体材料またはパスの表面から固体材料を通って立ち直る。これらの現象は分散呼ばれる;
もう一つの現象はイオン ビームが固体材料に注入された後、固体材料の抵抗が原因で、イオン ビームは次第に減る、固体材料に最終的にこととどまる。この現象はイオン・インプランテーションと呼ばれる。
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