
高純度モリブデン・ディスク モ・ターゲット
詳細情報 |
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製品名: | イオン・インプランテーションの部品 | タイプ: | Mo1 |
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密度: | 10.2 G/cm3 | 純度: | >99.95% |
引張強さ: | >325 MPa | 延長: | <20> |
標準: | ASTM B387-01 | 適用: | 射出成形 |
ハイライト: | 10.2 G/Cm3モリブデンのイオン・インプランテーション、射出成形のモリブデンのイオン・インプランテーション、10.2 G/Cm3イオン・インプランテーションの部品,Injection Molding Molybdenum Ion Implantation,10.2 G/Cm3 Ion Implantation Parts |
製品の説明
イオン・インプランテーションの部品は何百ものkVに10の電圧でイオンに要素の原子をイオン化するイオン ビームの技術、加速しそれらを、次に高速を得た後真空ターゲット部屋に置かれる工作物材料に注入するである。表面。
イオン・インプランテーションの後で、物質的な表面の身体検査の、化学および機械特性はかなり変わる。金属表面の連続的な耐久性は最初の注入の深さの2つから3つの一桁に達することができる。
指定及び化学成分(体言)
材料 | タイプ | 化学成分(重さによって) |
純粋なMoly | Mo1 | >99.95%min.Mo |
チタニウムZr Mo合金 | TZM | 0,5%のチタニウム/0,08%のZr/0,01 - 0,04% C |
Mo HfC | MHC | 1,2% Hf/0,05 - 0,12% C |
Molyレニウム | もっと | 再5,0% |
Molyのタングステン | MoW20 | 20,0% W |
Molyのタングステン | MoW505 | 0,0% W |
血しょう注入の技術が従来のイオン・インプランテーションの技術の直接問題を克服するが、企業の広い使用を限るイオン・インプランテーション プロセスで固有浅い注入の層の問題は常にある。
従って、より厚い変更された層を得るために、血しょうはPVDおよびCVDのすなわち、合成の注入および沈殿技術のような他のコーティングの技術とイオン・インプランテーションの技術を結合されなければならない基づかせていた。合成のコーティングの技術は国内外で重要な開発傾向であり、多くのリチウム電池の製造業者はそれに注意を払っている。
この合成のコーティングの技術は同じ真空槽または異なった真空システムで遂行することができる;注入および沈殿は同時または次々に遂行することができる。
イオン・インプランテーションの部品映像:
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