
高純度モリブデン・ディスク モ・ターゲット
詳細情報 |
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製品名: | イオンは部品を植え付けた | 等級: | Mo1 |
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密度: | 10.2 G/cm3 | 純度: | >99.95% |
引張強さ: | >315 MPa | 延長: | <21> |
標準: | ASTM B387 | 適用: | 金属の処理 |
ハイライト: | 99.95%モリブデンの注入イオン,モリブデンの注入イオンの処理に金属をかぶせなさい,99.95%のイオン・インプランテーションの部品 |
製品の説明
植え付けられたイオン部品は要素のイオンがそれによりターゲットの身体検査の、化学または電気特性を変える固体ターゲットに、加速される低温プロセスである。イオン・インプランテーションは半導体デバイスの製造、金属の表面処理および物質科学の研究で使用される。イオンがターゲットに停止し、残れば、イオンは(イオンがターゲットの構成と異なっていれば)ターゲットの元素構成を変える。イオンが高エネルギーのターゲットに当る場合、イオン・インプランテーションによりまた化学および物理的な変更を引き起こす。
指定及び化学成分(NONIMALS)
材料 | 等級 | 化学成分(重さによって) |
純粋なMoly | Mo1 | >99.95%min.Mo |
チタニウムZr Mo合金 | TZM | 0,5%のチタニウム/0,08%のZr/0,01 - 0,04% C |
Mo HfC | MHC | 1,2% Hf/0,05 - 0,12% C |
Molyレニウム | もっと | 再5,0% |
Molyのタングステン | MoW20 | 20,0% W |
Molyのタングステン | MoW505 | 0,0% W |
(1)それは純粋な無公害の表面処理の技術である;
(2)熱活発化および高温度の環境のための必要性は、および工作物の全体寸法そして表面の終わりを変えない;
(3)イオン・インプランテーションの層は基質のイオン ビームと表面間の一連の物理的な、化学相互作用によって形作られる新しい表面層でありそれと基質間に皮をむく問題がない;
(4)機械処理および熱処理はイオン・インプランテーションの後で要求されない。
イオンは部品を植え付けた
金属材料の修正のイオン・インプランテーションの適用は物理構造および段階の状態を、熱処理または表面のコーティング プロセスの後で金属材料表面にイオンをのある特定の線量そしてエネルギー、材料の機械の変えるために、化学および物理的性質を変えるために物質的な表面の化学成分注入すること、である。
具体的には、イオン・インプランテーションは光学音響を変えることができ、材料の超伝導の特性は、働く硬度を改善するために、材料の耐久性、耐食性および酸化抵抗を、最終的に材料のワーキング・ライフを延長する。
イオンは部品映像を植え付けた:
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