99.95%/99.99%のニッケルの放出させるターゲット高密度によってカスタマイズされるサイズ3N5~4N

商品の詳細:
起源の場所: 中国
ブランド名: JINXING
証明: ISO 9001
モデル番号: ニッケル版の放出させるターゲット
お支払配送条件:
最小注文数量: 1 kg
価格: 20~150USD/kg
パッケージの詳細: 合板の場合
受渡し時間: 10~25の仕事日
支払条件: L/C、D/A、D/P、T/T、ウェスタン・ユニオン
供給の能力: 100000kgs/M

詳細情報

材料: 版の放出させるターゲットにニッケルを被せなさい プロセス: CIPの溶けるHIPの押すこと
サイズ: カスタマイズされた 適用: pvdの塗装システム
形: のシリンダー、部分、シート粒状 結晶粒度: 微粒子のサイズ、よい密度
純度:: 99.95%、99.99%、99.999% 密度: 8.9g/cm3
ハイライト:

ニッケルの放出させるターゲット

,

3N5放出させるターゲット

,

高密度放出させるターゲット

製品の説明

ニッケル版の放出させるターゲット高い純度99.95%、99.99%、

 

高い純度材料、超高度純度材料、半導体の高い純度材料


材料の世界は4Nからの7Nに高純度材料を提供する:半導体の企業およびエレクトロニクス産業の基本原料が、高純度材料さまざまな産業分野で広く利用されている、分野の発光性カバーを含んで、thermoelectronicsと同時に、電子工学、情報、赤外線、太陽電池、高性能合金、等の不運をもたらすmatechは超高度純度材料の国内および国際的な顧客の必要性を満たすためにフル レンジを供給する。私達はだけでなく、高純度の原料を提供したり、またいい顧客のためのさまざまな高純度の原料を、超高度純度の金属のマグネトロンの放出させるターゲットのような、太陽電池のマグネトロンの放出させるターゲット作っても、太陽フィルムの蒸発のコーティング材料、電子高純度ワイヤー棒、ストリップ、粉…

 


方法を形作るマグネトロンの放出させる目標資料:物質的な形成方法は顧客の製品性能そして異なった条件に従って選ばれる。一般に材料の融点は低いとき、気孔率を除去するために溶け、投げ、造り、そして転がる真空を使用することは必要である。当然、有効な熱処理は均一穀物材料を精製して必要である。高い融点の材料(か高いもろさの材料冷たい地殻均衡押すことによって高温圧縮か、または熱い地殻均衡押すことによって)、およびいくつか形作られ、次に焼結する形作られる。私達の会社が提供するいろいろな種類の放出させる目標資料は過す適切な技術、高密度、均一穀物および長い耐用年数を…

 

版の放出させるターゲット99.99%にニッケルを被せなさい、平面の放出させるターゲット99.999%にニッケルを被せなさい

さまざまなサイズで利用できてであって下さい

 

 
等級: ニッケルの放出させるターゲット
  純度:99.95%、99.99%
ニッケル 高い純度のニッケルのSputtreingターゲット
密度: 8.9g/cm3
形: 丸型、管の形および版の形。

 

サイズ:

 

版の放出させるターゲット:

 

厚さ:0.04から1.40」(1.0から35mm)。

幅20"まで(50から500mm)。

長さ:6.56フィート(100-2000mm)への3.9"

要求される他のサイズ。

 

シリンダー放出させるターゲット:

 

3.94 Dia. X 1.58」(100 Dia. X 40mm)

2.56 Dia. X 1.58」(65 Dia. X 40mm)

または63*32mm要求される他のサイズ。

 

管の放出させるターゲット:

 

2.76 OD X 0.28の重量x 39.4" L (70 OD X L) 7つの重量x 1000mm

3.46 OD X 0.39の重量x 48.4" L (88 OD X L) 10の重量x 1230mm

要求される他のサイズ。

 

放出させるコーティングの適用分野:放出させるコーティングは包装のコーティング、装飾のコーティング、建築ガラス コーティング、自動車ガラス コーティング、低い放射ガラスのコーティング、フラット パネル ディスプレイ、光通信/光学企業、光学データ記憶工業、光学データ記憶工業、磁気データ記憶工業、光学コーティング、半導体分野、オートメーション、太陽エネルギー、治療、自動注油のフィルム、コンデンサー装置コーティング、他の機能コーティング、等(詳しい導入を書き入れるかちりと言う音)で広く利用されている

 

 

タイプ 適用 主要な合金 要求
半導体 集積回路のための中心材料の準備 W. Tungstenのチタニウム(WTI)、4Nか5Nより多くの純度のチタニウム、Ta、Alの合金、CU、等、

 

 

 

最も高い技術的要求事項、超高度純度の金属、高精度のサイズ、高い統合

 

スクリーン表示 放出させる技術はフィルムの生産の均等性を保障し、生産性を改善し、そしてコストを削減する ニオブ ターゲット、ケイ素 ターゲット、Crターゲット、モリブデン ターゲット、MoNbのAlターゲット、アルミ合金 ターゲット、銅ターゲット、銅合金ターゲット

 

 

 

均等性の高い技術的要求事項、高純度材料、大きく物質的な区域および高度

 

飾りなさい それは耐久性および耐食性の効果を美化するプロダクトの表面のコーティングのために使用される

 

 

 

 

クロム ターゲット、チタニウム ターゲット、ジルコニウム(Zr)、ニッケル、タングステン、チタニウム アルミニウム、CRSI、CrTiのcralzr、ステンレス鋼 ターゲット

 

装飾、省エネ、等のために主に使用されて
工具細工

 

 

 

用具の表面を増強すれば型は、製造された部品の耐用年数そして質を改善する

 

TiAlターゲット、CrのAlターゲット、Crターゲット、チタニウム ターゲット、錫、tic、Al203、等 高性能の条件および長い耐用年数
太陽光起電 第四世代の薄膜の太陽電池の製作のための放出させた薄膜の技術 亜鉛酸化アルミニウムターゲット、酸化亜鉛ターゲット、亜鉛アルミニウム ターゲット、モリブデン ターゲット、硫化カドミウム(CDS)ターゲット、銅のインジウム ガリウム セレニウム、等 広い適用
電子付属品

 

 

 

 

フィルムの抵抗およびフィルム キャパシタンスのため

 

NiCrターゲット、NiCrターゲット、Cr Siターゲット、Taターゲット、NiCrのAlターゲット、等 小型、よい安定性および小さい抵抗の温度係数は電子デバイスに要求される
情報蓄積

 

 

 

 

磁気記憶ため

 

基づくCr Coは、基づいてCO Fe NI基づかせていた合金を基づいていた 高い貯蔵密度、高い伝達速度

99.95%/99.99%のニッケルの放出させるターゲット高密度によってカスタマイズされるサイズ3N5~4N 0

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