
PVDチタン合金スプッティングターゲット
詳細情報 |
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材料: | アルミニウム版の放出させるターゲット | プロセス: | CIPのHIPの押すこと |
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サイズ: | カスタマイズされた | 適用: | pvdの塗装システム |
形: | 円形、版、管 | 結晶粒度: | 微粒子のサイズ、よい密度 |
純度:: | 99.95%、99.99%、99.999% | 密度: | 2.7g/cm3 |
ハイライト: | アルミニウム版の放出させるターゲット,半導体の企業のための放出させるターゲット,2.7 g/cm3放出させるターゲット |
製品の説明
熱間圧延によって原料として高い純度のアルミニウム インゴット(99.995%)がよい表面および形の大規模な高純度アルミニウム版を準備するのに使用された。異なった温度でアニールされた高純度アルミニウム版の微細構造は調査された。結果はおよび55分それぞれ45分の280 ℃の焼きなましの後で、95%の変形を用いる同様に転がされたアルミニウム シートが平均粒径は62.4 μ mおよびそれぞれ128.4 μ mよい結晶粒度のequiaxed構造を得ることができることをであることを示し。最終パスの転がり変形にプロダクトの結晶粒度の決定的な影響がある。変形がより大きければ、より小さい穀物は
材料の世界は4Nからの7Nに高純度材料を提供する:半導体の企業およびエレクトロニクス産業の基本原料が、高純度材料さまざまな産業分野で広く利用されている、分野の発光性カバーを含んで、thermoelectronicsと同時に、電子工学、情報、赤外線、太陽電池、高性能合金、等の不運をもたらすmatechは超高度純度材料の国内および国際的な顧客の必要性を満たすためにフル レンジを供給する。私達はだけでなく、高純度の原料を提供したり、またいい顧客のためのさまざまな高純度の原料を、超高度純度の金属のマグネトロンの放出させるターゲットのような、太陽電池のマグネトロンの放出させるターゲット作っても、太陽フィルムの蒸発のコーティング材料、電子高純度ワイヤー棒、ストリップ、粉…
アルミニウム版の放出させるターゲット99.999%のアルミニウム平面の放出させるターゲット99.999%
さまざまなサイズで利用できてであって下さい
高い純度のアルミニウム ターゲットは半導体デバイスの製造工業で広く利用されている。ターゲットの準備は高い純度アルミニウムの純度、また(001の)オリエンテーションの罰金およびユニフォームの粒状組織、また高い比率だけでなく、要求する。異なった圧延および焼きなましプロセスで高純度アルミニウムの微細構造そして質の進化、および高純度アルミニウム ターゲットの微細構造に対する再結晶化の行動の効果
超伝導の分野では、超高度純度アルミニウムは超伝導ケーブルの安定材料として使用される。
電子工学の分野では光電子工学の記憶媒体を、CD、CD-ROM、CD-RW、データ ディスクまたはマイクロ ディスク、5N ultrapureアルミニウム放出させるフィルムが軽い反映の層として使用される等製造するのに、5N ultrapureアルミニウムが使用されている、DVDの銀製ディスクのような。
等級: | アルミニウム放出させるターゲット |
純度:99.99%、99.9999% | |
アルミニウム | 高い純度アルミニウムSputtreingターゲット |
密度: | 7.19g/cm3 |
形: | 丸型、管の形および版の形。 |
サイズ:
版の放出させるターゲット:
厚さ:0.04から1.40」(1.0から35mm)。
幅20"まで(50から500mm)。
長さ:6.56フィート(100-2000mm)への3.9"
要求される他のサイズ。
シリンダー放出させるターゲット:
3.94 Dia. X 1.58」(100 Dia. X 40mm)
2.56 Dia. X 1.58」(65 Dia. X 40mm)
または63*32mm要求される他のサイズ。
管の放出させるターゲット:
2.76 OD X 0.28の重量x 39.4" L (70 OD X L) 7つの重量x 1000mm
3.46 OD X 0.39の重量x 48.4" L (88 OD X L) 10の重量x 1230mm
要求される他のサイズ。
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