
PVDチタン合金スプッティングターゲット
詳細情報 |
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プロセス: | CIPのHIPの押すこと | 結晶粒度: | 微粒子のサイズ、よい密度 |
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サイズ: | カスタマイズされた | 適用: | pvdの塗装システム |
材料: | アルミニウム ケイ素の合金(AlSi) | 形: | 円形、版、管 |
ハイライト: | アルミニウム ケイ素のAlsiの放出させるターゲット,放出させるAlsiは90:10を目標とする,80:20のAlsiの放出させるターゲット |
製品の説明
放出させるコーティングの技術の開発が近年、さまざまな材料のためのコーティングの技術非常に完全だった後。不運をもたらす会社は大学および大学、科学研究の施設の、産業および採鉱企業に放出させるコーティング ターゲットのフル レンジを(を含む金属ターゲット、合金および中間合金ターゲット、陶磁器ターゲット)提供する。
放出させるコーティングの適用分野:放出させるコーティングは包装のコーティング、装飾のコーティング、建築ガラス コーティング、自動車ガラス コーティング、低い放射ガラスのコーティング、フラット パネル ディスプレイ、光通信/光学企業、光学データ記憶工業、光学データ記憶工業、磁気データ記憶工業、光学コーティング、半導体分野、オートメーション、太陽エネルギー、治療、自動注油のフィルム、コンデンサー装置コーティング、他の機能コーティング、等(詳しい導入を書き入れるかちりと言う音)で広く利用されている
放出させるターゲット バックプレーンの供給、接着サービス:中心はoxygen-free銅、モリブデン、アルミニウム、ステンレス鋼および他の材料を含むいろいろ放出させるターゲット バックプレーンを、提供する。同時に、それはターゲットと後ろ板間の溶接サービスを提供する。
アルミニウム ケイ素の放出させるターゲットは、アルミニウム ケイ素の合金の放出させるターゲットさまざまなサイズで利用できる
D100x40mm D65x35mm等
方法を形作るマグネトロンの放出させる目標資料:物質的な形成方法は顧客の製品性能そして異なった条件に従って選ばれる。一般に材料の融点は低いとき、気孔率を除去するために溶け、投げ、造り、そして転がる真空を使用することは必要である。当然、有効な熱処理は均一穀物材料を精製して必要である。高い融点の材料(か高いもろさの材料冷たい地殻均衡押すことによって高温圧縮か、または熱い地殻均衡押すことによって)、およびいくつか形作られ、次に焼結する形作られる。私達の会社が提供するいろいろな種類の放出させる目標資料は過す適切な技術、高密度、均一穀物および長い耐用年数を…
適用:光学、電子工学、光電子工学、装飾、太陽エネルギー…会社に不運をもたらすことによって供給されるコーティング材料に高い純度、よい密度および引点火の利点がない
名前 | タイプ | 密度(g/cm3) | 溶解ポイント: |
AlSiの放出させるターゲット | 90:10 | approx.2.7 | 660 |
AlSiの放出させるターゲット |
80:20 | approx.2.7 | 660 |
主要なプロダクトは次のとおりである:
高い純度アルミニウムAl、高い純度の銅のCU、高い純度のチタニウムのチタニウム、高い純度のケイ素Si、高い純度の金のAu、高い純度銀製AG、高い純度のインジウム、高い純度のマグネシウムmg、高い純度亜鉛Zn、高い純度プラチナPt、高い純度のゲルマニウムGE、高い純度のニッケルNI、高い純度のタンタルTA、金のゲルマニウムの合金Auge、金のニッケル合金のauni、ニッケルのクロムの合金NiCr、チタニウムのアルミ合金TiAl、銅のインジウム ガリウム合金のcuinga、銅のインジウム ガリウム セレニウムの合金CuInGaSe、亜鉛アルミ合金ZnAl、アルミニウム ケイ素の合金AlSiおよび他の金属コーティング材料。
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