
PVDチタン合金スプッティングターゲット
詳細情報 |
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材料: | チタニウムのアルミ合金(TiAl) | プロセス: | CIPのHIPの押すこと |
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サイズ: | カスタマイズされた | 適用: | pvdの塗装システム |
形: | 円形、版、管 | 結晶粒度: | 微粒子のサイズ、よい密度 |
ハイライト: | 放出させるターゲット合金棒,チタニウムのアルミ合金の放出させるターゲット棒,高温圧縮の焼結の放出させるターゲット |
製品の説明
チタニウムのアルミ合金の棒径80mm、90mm、100mm x L、
cuttedできるかどれが最終的なサイズの放出させるターゲットに機械で造るために
放出させるコーティングの技術の開発が近年、さまざまな材料のためのコーティングの技術非常に完全だった後。不運をもたらす会社は大学および大学、科学研究の施設の、産業および採鉱企業に放出させるコーティング ターゲットのフル レンジを(を含む金属ターゲット、合金および中間合金ターゲット、陶磁器ターゲット)提供する。
方法を形作るマグネトロンの放出させる目標資料:物質的な形成方法は顧客の製品性能そして異なった条件に従って選ばれる。一般に材料の融点は低いとき、気孔率を除去するために溶け、投げ、造り、そして転がる真空を使用することは必要である。当然、有効な熱処理は均一穀物材料を精製して必要である。高い融点の材料(か高いもろさの材料冷たい地殻均衡押すことによって高温圧縮か、または熱い地殻均衡押すことによって)、およびいくつか形作られ、次に焼結する形作られる。私達の会社が提供するいろいろな種類の放出させる目標資料は過す適切な技術、高密度、均一穀物および長い耐用年数を…
放出させるターゲットのためのチタニウムのアルミ合金の棒、
チタニウムのアルミ合金の放出させるターゲットはさまざまなサイズで利用できる
真空の放出させるターゲットおよび光学コーティング材料は装飾的なコーティング、用具のコーティング、光学コーティングおよび上塗を施してあるガラスおよびフラット パネル ディスプレイ工業で広く利用されている。作り出された放出させるターゲットに適度な構成の設計が、滑らかで、滑らかな表面およびよい電気伝導率がある。働く流れは放出させることの間に安定して、抗力が高いターゲットの底板はしっかりと加えられる。、よい安定性、よい熱抵抗は、抵抗の耐久性および酸化抵抗、小さい温度係数および他の特徴。
目標資料は材料特性に従って準備される:熱押す焼結プロセスおよび真空溶ける投げるプロセス。プロダクトに高い純度、優秀な微細構造および高い稼働率の特徴がある。
ターゲット タイプは次のとおりである:きっかり長方形、tube-shaped、disc-shaped、ring-shaped、薄片型、粉状、等。指定および部品はまたユーザーの特定の条件に従ってカスタマイズすることができる。
密度(g/cm3) | 実際の密度(g/cm3) | 小型であることdensity% | |
Ti50Al50at% 2N8 |
3.633 | 3.62 | >99% |
密度(g/cm3) | 実際の密度(g/cm3) | 小型であることdensity% | |
Ti70Al30at% 2N6 |
3.99 | 3.987 | >99% |
他のcompostion: 50:50 at%の80:20 at%の70:30 at%の40:60 at%の33:67 at%
主要なプロダクトは次のとおりである:
高い純度アルミニウムAl、高い純度の銅のCU、高い純度のチタニウムのチタニウム、高い純度のケイ素Si、高い純度の金のAu、高い純度銀製AG、高い純度のインジウム、高い純度のマグネシウムmg、高い純度亜鉛Zn、高い純度プラチナPt、高い純度のゲルマニウムGE、高い純度のニッケルNI、高い純度のタンタルTA、金のゲルマニウムの合金Auge、金のニッケル合金のauni、ニッケルのクロムの合金NiCr、チタニウムのアルミ合金TiAl、銅のインジウム ガリウム合金のcuinga、銅のインジウム ガリウム セレニウムの合金CuInGaSe、亜鉛アルミ合金ZnAl、アルミニウム ケイ素の合金AlSiおよび他の金属コーティング材料。
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