
PVDチタン合金スプッティングターゲット
詳細情報 |
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材料: | チタニウムのアルミ合金(TiAl) | サイズ: | カスタマイズされた |
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適用: | pvdの塗装システム | 形: | 円形、版、管 |
プロセス: | CIPのHIPの押すこと | 結晶粒度: | 微粒子のサイズ、よい密度 |
ハイライト: | チタニウムの合金の放出させるターゲット,70:30 At%の放出させるターゲット,50:50のチタニウムの放出させるターゲット |
製品の説明
放出させるコーティングの技術の開発が近年、さまざまな材料のためのコーティングの技術非常に完全だった後。不運をもたらす会社は大学および大学、科学研究の施設の、産業および採鉱企業に放出させるコーティング ターゲットのフル レンジを(を含む金属ターゲット、合金および中間合金ターゲット、陶磁器ターゲット)提供する。
放出させるコーティングの適用分野:放出させるコーティングは包装のコーティング、装飾のコーティング、建築ガラス コーティング、自動車ガラス コーティング、低い放射ガラスのコーティング、フラット パネル ディスプレイ、光通信/光学企業、光学データ記憶工業、光学データ記憶工業、磁気データ記憶工業、光学コーティング、半導体分野、オートメーション、太陽エネルギー、治療、自動注油のフィルム、コンデンサー装置コーティング、他の機能コーティング、等(詳しい導入を書き入れるかちりと言う音)で広く利用されている
放出させるターゲット バックプレーンの供給、接着サービス:中心はoxygen-free銅、モリブデン、アルミニウム、ステンレス鋼および他の材料を含むいろいろ放出させるターゲット バックプレーンを、提供する。同時に、それはターゲットと後ろ板間の溶接サービスを提供する。
チタニウム アルミニウム放出させるターゲットは、チタニウムのアルミ合金の放出させるターゲットさまざまなサイズで利用できる
真空の放出させるターゲットおよび光学コーティング材料は装飾的なコーティング、用具のコーティング、光学コーティングおよび上塗を施してあるガラスおよびフラット パネル ディスプレイ工業で広く利用されている。作り出された放出させるターゲットに適度な構成の設計が、滑らかで、滑らかな表面およびよい電気伝導率がある。働く流れは放出させることの間に安定して、抗力が高いターゲットの底板はしっかりと加えられる。、よい安定性、よい熱抵抗は、抵抗の耐久性および酸化抵抗、小さい温度係数および他の特徴。
適用:光学、電子工学、光電子工学、装飾、太陽エネルギー…会社に不運をもたらすことによって供給されるコーティング材料に高い純度、よい密度および引点火の利点がない
密度(g/cm3) | 実際の密度(g/cm3) | 小型であることdensity% | |
Ti50Al50at% 2N8 |
3.633 | 3.62 | >99% |
密度(g/cm3) | 実際の密度(g/cm3) | 小型であることdensity% | |
Ti70Al30at% 2N6 |
3.99 | 3.987 | >99% |
他のcompostion: 50:50 at%の80:20 at%の70:30 at%の40:60 at%の33:67 at%
主要なプロダクトは次のとおりである:
高い純度アルミニウムAl、高い純度の銅のCU、高い純度のチタニウムのチタニウム、高い純度のケイ素Si、高い純度の金のAu、高い純度銀製AG、高い純度のインジウム、高い純度のマグネシウムmg、高い純度亜鉛Zn、高い純度プラチナPt、高い純度のゲルマニウムGE、高い純度のニッケルNI、高い純度のタンタルTA、金のゲルマニウムの合金Auge、金のニッケル合金のauni、ニッケルのクロムの合金NiCr、チタニウムのアルミ合金TiAl、銅のインジウム ガリウム合金のcuinga、銅のインジウム ガリウム セレニウムの合金CuInGaSe、亜鉛アルミ合金ZnAl、アルミニウム ケイ素の合金AlSiおよび他の金属コーティング材料。
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