
PVDチタン合金スプッティングターゲット
詳細情報 |
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材料: | クロム、Chrome | プロセス: | CIPのHIPの押すこと |
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適用: | 蒸発材料、蒸発のコーティング | 密度: | 7.19g/cm3 |
形: | シート、部分、粒状シリンダー粉 | 結晶粒度: | 微粒子のサイズ、よい密度 |
サイズ: | カスタマイズされた | 純度: | 99.5%、99.9%、99.95% |
ハイライト: | クロムは放出させるターゲットを広げる,7.19 g/Cm3密度の放出させるターゲット,蒸発のコーティングの放出させるターゲット |
製品の説明
蒸発のコーティングの原則:
物質的な蒸発の交通機関からの沈殿への蒸発のコーティングの物理的なプロセスは次の通りある:
1. いろいろな種類のエネルギーを熱エネルギーに変えなさい、ある特定のエネルギー(0.1-0.3ev)のガスの粒子(原子、分子または原子グループ)に蒸発しか、または昇華し、なるために板材を熱しなさい;
2. 板材の表面に、気体粒子は衝突自由な線形飛行の基質の表面にかなりの速度を残して基本的に運ばれる;
3. 固相のフィルムは基質の表面の気体粒子の凝縮によって形作られる;
4. フィルムを構成する原子は再配列されるか、または化学的に結ばれる。
多くの種類の蒸発のコーティング材料がある。現在、市場で何百ものそれら主に使用されるある。工程は主に下記のものを含んでいる:押しつぶす、霧状になる、タブレットの押すこと、投げること、鋳造物、等溶ける押しつぶす、ワイヤー デッサン、ワイヤー切断、粒状化水晶。プロダクト形は主に下記のものを含んでいる:ワイヤー棒、粉、不規則な粒子、小さいシリンダー、小さい球、円錐形
クロムの部分、クロム シートはさまざまなサイズで利用できる
要因に影響を及ぼす厚さ
1. 基質およびターゲットの格子一致のある程度
2. 基質の表面温度
3. 蒸発力、率
4. 真空の程度
5. コーティングの時間および厚さ。
構成の均等性
蒸発のコーティングの部品の均等性は保証し易くない。特定の調節可能な要因は上でと同じである。但し、主義の限定が原因で、蒸発のコーティングの部品の均等性は非単一の構成のコーティングのためによくない。
結晶学の均等性
1. 格子一致の程度
2. 基質の温度
3. 蒸発速度
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等級: | Chromeの放出させるターゲット |
純度:99.5%、99.9%、99.95% | |
サイズ | 3x3mm、6x6mm |
密度: | 7.19g/cm3 |
形: | 粒状シート |
主要なプロダクトは次のとおりである:
次の通り:(粒子、ブロックおよび粉はカスタマイズすることができる)アルミニウム粒子99.99% 3 * 3mm;99.999% 3 * 3mmの銅の粒子99.99% 3 * 3mm;99.999%の3つ* 3mmの鉄の粒子99.9%の2 * 3mmのチタニウムの粒子99.999%の6つ* 6mmバナジウム粒子99.9%の3 * 3mmのニッケルの粒子99.999%の6つ* 6mmのクロムの粒子99.95%の3-5mmのコバルトの粒子99.95%の2-8mmのマンガンの粒子99.8%の1-10のmmバリウムの粒子99.6%の2-6cm (deoxidizerとして)カルシウム粒子99.5%の1-3mmの(deoxidizerとして使用されて)タングステンの粒子99.95%の6 * 6mmのニオブの粒子99.95%の6つ* 6mmのモリブデンの粒子99.95%の6 * 6mmのタンタルの粒子99.95% 6 * 6mmのジルコニウムの粒子99.5% 1.6 * 5mm;99.95%本の2.4 * 5mmの水晶ハフニウムの棒99.9% d21mmのハフニウムの粒子99.9%。
高い純度アルミニウムAl、高い純度の銅のCU、高い純度のチタニウムのチタニウム、高い純度のケイ素Si、高い純度の金のAu、高い純度銀製AG、高い純度のインジウム、高い純度のマグネシウムmg、高い純度亜鉛Zn、高い純度プラチナPt、高い純度のゲルマニウムGE、高い純度のニッケルNI、高い純度のタンタルTA、金のゲルマニウムの合金Auge、金のニッケル合金のauni、ニッケルのクロムの合金NiCr、チタニウムのアルミ合金TiAl、銅のインジウム ガリウム合金のcuinga、銅のインジウム ガリウム セレニウムの合金CuInGaSe、亜鉛アルミ合金ZnAl、アルミニウム ケイ素の合金AlSiおよび他の金属コーティング材料。
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