
PVDチタン合金スプッティングターゲット
詳細情報 |
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材料: | クロム、Chrome | プロセス: | CIPのHIPの押すこと |
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サイズ: | カスタマイズされた | 適用: | PVDのコーティング、 |
密度: | 7.19g/cm3 | 形: | 円形、版、管の放出させるターゲット |
結晶粒度: | 微粒子のサイズ、よい密度 | 純度: | 99.5%、99.9%、99.95% |
ハイライト: | クロムの管のCrの放出させるターゲット,延性の放出させるターゲット,CIPの放出させるターゲットに塗るPVD |
製品の説明
クロムの管の放出させる目標資料は銀色の白い光沢がある金属である、純粋なクロムに延性があり、不純物を含んでいるクロムは堅く、壊れやすい。密度は7.19g/cm3である。強いアルカリ解決のSoluble。クロムに高い耐食性があり、酸化はレッド ブルの状態の空気で遅い。水で不溶解性。金属のめっきによる保護
クロムの管の放出させるターゲット、クロムの管の放出させるターゲットはさまざまなサイズで利用できる
1. 高い純度のクロム ターゲットの純度は99.5%、99.8%、99.95%、99.99%である
2. 高純度のクロム ターゲットの共通の指定:高純度のクロムの管ターゲット、高純度のクロム リング ターゲット、長さ20-400mmの直径50-120mmの管の厚さ5-10mm。TiO2、TiB2、Ti3O5、等はあなたの条件に従ってカスタマイズされるクロムの管ターゲットで吹きかかる血しょうである場合もある。
3. 高い純度のクロム ターゲットの工程:熱い地殻均衡押すことの粉末や金。
4. 高い純度のクロムの粒子:共通の粒度は次のとおりである:1-3mm、3-5mm、40網、- 20-300網、40高い純度およびよい蒸発の効果の蒸発のコーティングのための× 60の× 80の× 200の×。
5. 高い純度のクロムのストリップ:Ø 0.3、Ø 0.5、Ø 1.0、等。
6. 高純度のクロムの関連した変数:方式:Cr
7. 出現:銀製灰色
8. 指定:穀物、粉、目標資料、棒。
等級: | Chromeの放出させるターゲット |
純度:99.5%、99.9%、99.95% | |
クロムの合金 | AlCr、CrAl、CrSi、TiCr等 |
密度: | 7.19g/cm3 |
形: | 丸型、管の形および版の形。 |
熱い(冷たい)地殻均衡押すこと、金属の製錬および粉末や金によって、私達の会社はさまざまなマグネトロンの放出させるターゲットの作成を専門にする:クロム ターゲット、アルミニウム ターゲット、銅ターゲット、銀製ターゲット、亜鉛アルミニウム ターゲット、銅のインジウム ガリウム セレニウム ターゲット、銅のインジウム ターゲット、銅のインジウム ガリウム ターゲット、ゲルマニウムのアンチモン テルル ターゲット、ランタンのストロンチウムのマンガンの酸化物ターゲット、鉄のビスマスのマンガンの酸化物ターゲット、クロム ターゲット、ニッケルのクロム ターゲット、亜鉛ターゲット、アルミニウム ターゲット、マグネシウム ターゲット、ハフニウム ターゲット、スカンジウム ターゲット、ケイ素 ターゲット、ケイ素 ターゲット、テルル ターゲット、ニオブ ターゲット、タンタル ターゲット、コバルトのクロム ターゲット、アルミニウム イリジウム ターゲット、鉄のクロムのアルミニウム イリジウム ターゲット、ほう素の炭化物ターゲット、窒化ホウ素ターゲット、チタニウムの窒化物ターゲット、モノクリスタル ケイ素 ターゲット、多結晶性ケイ素 ターゲット、ケイ素二酸化物ターゲット、二酸化チタンターゲット、酸化アルミニウムターゲット、ストロンチウムのチタン酸塩 ターゲット、バリウムのチタン酸塩 ターゲット、ジルコニア ターゲット、ハフニウムの酸化物ターゲット、銅酸化物ターゲット、マンガンの酸化物ターゲット、酸化マグネシウムターゲット、酸化亜鉛ターゲット、亜鉛硫化ターゲット、硫化カドミウムターゲット、窒化ホウ素ターゲット、炭化ケイ素ターゲット、イットリウムの酸化物ターゲット、酸化亜鉛ターゲット、ストロンチウムのチタン酸塩 ターゲット、銀製のインジウムのアンチモン テルル合金ターゲット、インジウムのテルル化物 ターゲット、ルテニウム ターゲット、パラジウム ターゲット、イリジウム ターゲット、金ターゲット、プラチナ ターゲット、銀製ターゲット、オスミウム ターゲット、アゾ ターゲット、ITOターゲット、カドミウム テルル化物 ターゲット、硫化カドミウムターゲット、亜鉛テルル化物 ターゲット、顧客の特定の条件に従うインジウムのセレン化物 ターゲット、銅のセレン化物 ターゲット、ランタンのストロンチウムのマンガンの酸化物および他の金属ターゲット、合金ターゲット、陶磁器ターゲット、モノクリスタル シリコン基板、ケイ素酸化物の基質、アルミナの基質、等主に、私達はさまざまな原料のさまざまな指定そして目標資料を処理する。私達のプロダクトは良質、低価格および短い受渡し時間のある。私達は多くの国内コーティングの工場、コータの製造業者、科学研究の施設および国内および外国大学が付いているよい商売関係を維持する。現在、私達の会社は良質プロダクト、組織的サービスおよび科学的管理が付いている共通の成長スペースを顧客に与えている。
適用:
1. 金属のクロム純度99% - 99.5%:、サーメット合金の添加物のために使用されて、粉末や金、堅い合金、ダイヤモンド用具、ダイヤモンド プロダクト、電気合金は、芯を取られたワイヤー、溶接材料、アルミ合金の添加物、熱噴霧材料、高温および高い耐久力のある材料、光学コーティング材料、化学製品、等を溶かす。
2. 金属のクロム99.5% - 99.9%の純度:物理的な蒸気沈殿、高温合金、熱い地殻均衡押すクロム ターゲット原料、サーメット、堅い合金の付加、溶接材料、ダイヤモンド用具、レーザーのクラッディング、噴霧、等のために使用される。
3. 金属のクロムの純度は以上99.9%ある;それは宇宙航空材料、蒸気タービン、コーティング ターゲット、等のために使用される。
タイプ | 適用 | 主要な合金 | 要求 |
半導体 | 集積回路のための中心材料の準備 | W. Tungstenのチタニウム(WTI)、4Nか5Nより多くの純度のチタニウム、Ta、Alの合金、CU、等、 |
最も高い技術的要求事項、超高度純度の金属、高精度のサイズ、高い統合
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スクリーン表示 | 放出させる技術はフィルムの生産の均等性を保障し、生産性を改善し、そしてコストを削減する | ニオブ ターゲット、ケイ素 ターゲット、Crターゲット、モリブデン ターゲット、MoNbのAlターゲット、アルミ合金 ターゲット、銅ターゲット、銅合金ターゲット |
均等性の高い技術的要求事項、高純度材料、大きく物質的な区域および高度
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飾りなさい | それは耐久性および耐食性の効果を美化するプロダクトの表面のコーティングのために使用される |
クロム ターゲット、チタニウム ターゲット、ジルコニウム(Zr)、ニッケル、タングステン、チタニウム アルミニウム、CRSI、CrTiのcralzr、ステンレス鋼 ターゲット
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装飾、省エネ、等のために主に使用されて |
工具細工 |
用具の表面を増強すれば型は、製造された部品の耐用年数そして質を改善する
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TiAlターゲット、CrのAlターゲット、Crターゲット、チタニウム ターゲット、錫、tic、Al203、等 | 高性能の条件および長い耐用年数 |
太陽光起電 | 第四世代の薄膜の太陽電池の製作のための放出させた薄膜の技術 | 亜鉛酸化アルミニウムターゲット、酸化亜鉛ターゲット、亜鉛アルミニウム ターゲット、モリブデン ターゲット、硫化カドミウム(CDS)ターゲット、銅のインジウム ガリウム セレニウム、等 | 広い適用 |
電子付属品 |
フィルムの抵抗およびフィルム キャパシタンスのため
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NiCrターゲット、NiCrターゲット、Cr Siターゲット、Taターゲット、NiCrのAlターゲット、等 | 小型、よい安定性および小さい抵抗の温度係数は電子デバイスに要求される |
情報蓄積 |
磁気記憶ため
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基づくCr Coは、基づいてCO Fe NI基づかせていた合金を基づいていた | 高い貯蔵密度、高い伝達速度 |
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